Systeme für hochpräzise Beschichtungen unter Ultrahochvakuumbedingungen
Spezielle Beschichtungen, die extremen Genauigkeitsanforderungen unterliegen, sind nur unter Ultrahochvakuumbedingungen realisierbar. Basierend auf den Erfahrungen im UHV-Bereich entwickelt und produziert PINK maßgeschneiderte Beschichtungssysteme nach Kundenspezifikation u.a. für die Materialentwicklung in der Laserphysik.
Blick in die Vakuumkammer einer Magnetron-Sputteranlage, in der vier Substrate mit Ø 150 mm gleichzeitig beschichtet werden können.
Das Spektrum reicht von Magnetron-Sputteranlagen, die nach dem Verfahren der Kathoden-Zerstäubung mit Sputterelektroden arbeiten, bis hin zu modularen Systemen,die mit einem Pulsed-Laser-Deposition-System (PLD) ausgerüstet sind und für die Herstellung und Analyse von dünnsten Schichten wie z.B. Kuprat-Supraleitern, Schichtmanganaten, heteroepitaktischen Hybridstrukturen oder metallischen Dünnschichteneingesetzt werden.
Herstellung von besonders streulichtarmen Röntgenspiegeln: Prozesskammer einer von PINK produzierten UHV-Clustertool-Anlage mit Pulsed-Laser-Deposition-System (PLD), auf der Multilayer-Schichten mit einer extrem geringen Rauheit von nur annähernd einem Zehntel Nanometer erzeugt werden können.
(Foto: Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS)
Cluster -Tool-Beschichtungsanlage zur Herstellung von Röntgenspiegeln.